Провідна скляна лазерна машина для писання|Високошвидкісне точне травлення

Провідна скляна машина для писання лазерного лазера-це високоефективне рішення для лазерної абляції, писання, травлення та структурування електропровідних матеріалів на скляних та плівкових підкладках ., розроблених для точності виробництва в електроніці, фотонольтиїчних та смарт-скляних індустріях, ця машина підтримує ультрафіну ширину ліній<10 μm , ideal for advanced applications such as ITO, silver paste (Ag), graphene, CNT, perovskite solar cells, and more.

Послати повідомлення

Наш електропровідний скляний лазерний писак дозволяє швидкошвидкісно, ультра-тонкий (<10μm) laser processing on glass/PET substrates. Ideal for ablation, scribing, and structuring of conductive layers (ITO, Ag, CNT, graphene, etc.) with 99% yield and ±3μm accuracy. Consumable-free, eco-friendly, and fully automated.

Дивіться нашу машину для писань лазерного запису:

Ключові переваги

◎ Висока ефективність:

Цей скляний лазерний автомат має сухий процес, що споживає, з автоматизованим управлінням програмним забезпеченням, швидкісною обробкою до 4000 мм/с та точним ± 3 мкм CCD Auto-Вирівнювання .

◎ Точність та гнучкість

Ця машина для писання пропонує ультрафін<10 μm line width processing with support for nanosecond, picosecond, and femtosecond lasers, ±3 μm file stitching accuracy, and a customizable work area of up to 1200×600 mm.

◎ Ендаефективне виробництво

Ця машина з лазерним писанням забезпечує високу швидкість прибутковості 99%, низьке споживання електроенергії, мінімальні вимоги до навчання оператора та нульове забруднення для ефективного та екологічно чистого виробництва .

Застосовувані матеріали

The machine performs ultra - fine line - width laser etching on coating materials such as ITO, FTO, Ag, CNT, graphene, nano - silver, MoAlMo, copper, conductive polymer films, aluminum films, PERC, perovskite solar cells, TCO, carbon powder, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, gold, etc., on glass or film Субстрати . Він також може проводити пряму лазерну абляцію та писання на прозорому склі, з мінімальною шириною лінії менше 10 мкм .

Технічні характеристики

Лазерне джерело	Волоконно -лазер	Зелений лазер	УФ -лазер
Довжина хвилі	1064 нм	532 нм	355 нм
Влада	20 W	10 W	10 W
Ширина пульсу	Наносекунд, фемтосекунд, пікосекунд	Наносекунд, пікосекунд	Наносекунд, пікосекунд
Мінімальне місце для фокусування	Менше або дорівнює 10 мкм (залежить від матеріалу та лазерного типу)
Мінімальна ширина лінії травлення	Менше або дорівнює 10 мкм (залежить від матеріалу та лазерного типу)
Швидкість обробки	Менше або дорівнює 4000 мм/с
Діапазон обробки	600 × 1200 мм / 600 × 600 мм (стандартний розмір; налаштування на основі вимог клієнта)
Максимальна площа проходу	110 мм × 110 мм (стандартна конфігурація; необов’язково на основі попиту)
CCD автоматичного позиціонування	±3 μm
Лінійна точність позиціонування таблиці двигуна	±2 μm
Повторюваність лінійної таблиці двигуна	±1 μm
Розміри обладнання	1650 мм L × 1300 мм Вт 1670 мм год
Вага обладнання	1800 кг
Підтримувані формати файлів	Стандартні файли Gerber, файли DXF, файли PLT тощо .